7 月 1 日消息，东京电子TEL的这一大胆投资计划预示着其在全球半导体设备制造业中的坚定决心与雄心壮志。宫城子公司总裁神原弘光在近日接受台媒《经济日报》采访时表示，此次投资将主要用于技术研发、生产设施升级以及市场拓展等方面，旨在巩固并进一步提升东京电子在全球半导体设备市场的领先地位。
东京电子此番大规模投资意在成为全球第一大半导体设备制造商，1.5 万亿日元的金额也是东京电子上个五年周期投资额的 1.8 倍。
东京电子财年周期为上一日历年 4 月至当日历年 3 月，其 2024 财年半导体制造设备销售额为 18305 亿日元（当前约 829.62 亿元人民币），目前拥有 18236 名员工。
东京电子宣称其是世界第四大半导体设备制造商，排在 ASML（2023 年营收约合 2171.78 亿元人民币）、应用材料（2023 年营收约合 1930.79 亿元人民币）和泛林之后。
从细分类别来看，东京电子在涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉、批量沉积四类设备上是全球市占榜首，在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台四类设备上也是市占第二。
其中，东京电子在与 ASML High-NA EUV 光刻机配套的高导向性电浆（等离子）蚀刻设备上处于完全垄断地位，而其探针台也是 CoWoS 和共封装光学 CPO 等先进封装的关键设备。
目前生成式 AI 服务器快速发展，相关逻辑与存储芯片需求提升，带动晶圆厂向东京电子等设备厂商追加下单，AI 应用相关设备营收已达东京电子整体销售额三成。
此外全球数字转型加速、半导体制程微缩持续推进。这些因素共同作用，给了东京电子积极扩大营运规模以满足客户需求的信心。
东京电子宫城子公司拥有全球最大的等离子蚀刻设备制造基地，也生产用于三星电子 3nm、台积电 2nm 工艺的涂布显影设备，正着手开发 1nm 级以下级别的涂布显影设备。
▲ 东京电子宫城子公司现有研发中心
该子公司还在兴建第三研发中心，预计 2025 年春季完工启用。
